【编者按】在全球芯片产业竞争日趋白热化的今天，一场围绕下一代芯片制造技术的角逐正在悄然升级。比利时微电子研究中心（imec）近日以4亿美元天价，成功锁定全球仅十余台的ASML High NA EUV光刻机，这一举动不仅巩固了其在芯片制造前沿的“练兵场”地位，更被视为欧洲强化半导体自主战略的关键落子。从人工智能逻辑芯片到高带宽内存芯片，更小、更快、更节能的芯片未来已触手可及。而imec凭借其独特的开放合作模式，正成为全球芯片巨头磨砺技术、协同创新的核心枢纽。这不仅是机器的进驻，更是欧洲在科技主权道路上掷地有声的宣言。
比利时鲁汶，3月18日消息：比利时芯片研究实验室imec周三宣布，已成功锁定一台ASML价值4亿美元的高数值孔径极紫外光（High NA EUV）光刻机——这种设备全球仅有不到十台——此举巩固了其在为产业界准备下一代芯片制造工具方面的关键角色。
ASML的客户，包括英特尔和SK海力士，正筹备最早于2027年使用High NA工具——该技术有望实现更微小的芯片电路——来制造新的人工智能逻辑芯片和高带宽内存芯片。
曾协助ASML开发EUV技术的imec，正依据其商业模式购入此设备。该模式让企业和研究人员能在类似工厂的环境中，共享使用尖端芯片制造工具。
凭借其与ASML、应用材料、泛林、科磊及东京电子等芯片设备制造商达成的众多双边协议，imec已成为芯片公司测试、开发并确保其下一代工具能协同工作的核心基地。
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IMEC NANOIC试验线的核心装备
这台High NA设备将成为imec耗资25亿欧元的NanoIC试验线的核心，该试验线获得了包括欧盟芯片法案在内的14亿欧元公共资金支持。
imec首席执行官吕克·范登霍夫在新闻发布会上表示，为这条试验线引入ASML机器“巩固了欧洲在全球半导体价值链核心的地位”。“它是欧洲战略自主和技术主权的核心。”
ASML是极紫外（EUV）光刻机的唯一制造商，这种设备用于将电路“印制”到芯片上。
High NA指的是新机器拥有更大的数值孔径——类似于相机的光圈——这使得制造的芯片特征尺寸可缩小高达66%，从而让芯片速度更快、能效更高。
ASML在二月曾告知路透社，经过多年测试，High NA工具已准备好投入商业化生产。
